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常見問題
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實驗室臺柜內(nèi)的氣流速度的分布均勻嗎

  說到實驗室臺柜應(yīng)該有很多用戶是比較感興趣的,因為一般在實驗室中都可以見到它的身影,所以大家都想知道很多的關(guān)于它的消息。如果你之前并不知道應(yīng)該從哪里入手去了解它的話,可以跟著小編一起來看一看。
  在實驗室臺柜中當通風氣流通過時,截面上氣流的速度分布是不均勻的。在柜壁面上,由于粘附作用,氣流的速度為零,越接近中心線速度越大。運用流體力學分析可知,通風氣流速度的分布如圖l所示。
  在實驗臺b-b截面上氣流的速度是按拋物線規(guī)律分布,在截面中間氣流的速度較大,在這里只要有粉霧,通風氣流就能把它帶走,這里對粉霧的控制能力很強,我們稱這里為強控制區(qū);而在實驗臺兩側(cè)通風氣流的速度為零,就是說在這里通風氣流對粉霧的控制能力很弱,這里我們稱它為弱控制區(qū)(一)。
  在實驗室臺柜a-a截面上,由于工件對通風氣流的阻礙,在工件迎著通風氣流的-面同樣存在著一個氣流速度為零的區(qū)域,這里稱它為弱控制區(qū)(二)。而在工件兩側(cè),則分別是兩個強控制區(qū)。

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